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半導体における高透明度光学ボロシリケートガラス基板

光窓
2025-06-08
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今雑談しなさい
#ガラスのディスク #保護レンズ #サイト グラス
半導体における高透明度光学ホウケイ酸ガラス基板 材料: 基本組成： 主成分は二酸化ケイ素（SiO₂）と三酸化ホウ素（B₂O₃）で、アルカリ含有量は最小限です。 製造： 極めて高い純度と均質性を確保するため、白金ライニングされた炉で連続溶融して製造されます。多くの場合、サブナノメートルレベルの表面粗さに研磨されます。 主要添加物： 化学的安定性のために正確に添加された 酸化アルミニウム（Al₂O₃） ... お問い合わせ
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